Уже в найближчому майбутньому японська корпорація збирається поліпшити техпроцес до 2-нм, до того ж її установка набагато простіша, ніж громіздкі системи від ASML.
Компанія Canon на своєму офіційному сайті сьогодні оголосила про створення новітньої системи “наноімпринтної літографії” FPA-1200NZ2C. Ця система дасть змогу компанії виробляти чіпи за 5-нм технічним процесом, а в найближчому майбутньому зменшити їхнє значення до 2-нм.
Компанія стверджує, що такий техпроцес ще більше збільшить продуктивність і функціональність нових процесорів. Для прикладу: найсучасніший чип A17 Pro всередині iPhone 15 Pro і Pro Max від Apple являє собою 3-нм напівпровідник.
Як зазначають експерти CNBC, головний конкурент і фактично монополіст на ринку літографічного обладнання, без якого немислима розробка нових процесорів, нідерландська компанія ASML, використовує у своїх установках ультрафіолетове світло. У Canon заявили, що її машині не потрібне джерело світла зі спеціальною довжиною хвилі, що знижує енергоспоживання і значно спрощує весь процес.
Секрет успіху в наноімпринтній літографії
Canon розробляє свою технологію наноімпринтної літографії (NIL) ще з 2004 року, але тільки зараз у компанії змогли домогтися значного результату. Технологія японської фірми повністю виключає фотолітографію і замість цього наносить бажаний малюнок схеми на кремнієву пластину. Наноімпринтна літографія (НІЛ) — це метод формування наноструктур на поверхні з використанням механічного впливу. На відміну від традиційних методів літографії, таких як фотолітографія або електронно-променева літографія, НІЛ не вимагає використання фоторезисту або інших хімічних речовин.
Під час НІЛ використовується штамп, який має рельєфну структуру, що відповідає бажаній наноструктурі. Штамп нагрівається до температури, вищої за температуру плавлення резисту. Потім штамп притискається до поверхні резисту, і резист плавиться і приймає форму штампа. Після охолодження резист твердне, утворюючи наноструктуру.
НІЛ має низку переваг порівняно з традиційними методами літографії:
- низька вартість: НІЛ не вимагає використання дорогого обладнання або матеріалів;
- простота процесу: НІЛ є відносно простим процесом, який може бути легко масштабований;
- висока роздільна здатність: НІЛ дає змогу формувати наноструктури з роздільною здатністю до кількох нанометрів.
До чого тут Китай?
Як відомо, Китай підданий найжорсткішим технологічним санкціям від США та їхніх союзників. До Китаю заборонено постачати будь-яке літографічне обладнання, яке дасть змогу КНР розробляти сучасні процесори для військових розробок. Уряд Нідерландів заборонив компанії ASML експортувати свої машини для літографії EUV до Китаю, і вона не відправила в країну жодного пристрою. Причина в тому, що ці машини є ключем до створення найпередовіших чипів.
Однак, тут експерти розгледіли виверт. Річ у тім, що в списку забороненого обладнання йдеться про ультрафіолетову літографію. Однак у системі Canon використовується технологія без ультрафіолетових променів, а отже розробка японців опиниться під пильною увагою з боку КНР. Поки що Canon не відповіла журналістам CNBC на запитання: чи може компанія відправити свою літографічну систему в Китай.
